Changchun Institute of Optics,Fine Mechanics and Physics,CAS
机械刻划光栅的刻线弯曲与位置误差对平面光栅性能影响及其修正方法 | |
李晓天; 巴音贺希格; 齐向东; 于海利; 唐玉国 | |
2013-03-10 | |
发表期刊 | 中国激光
![]() |
期号 | 03页码:232-239 |
摘要 | 机械刻划法是制作平面光栅的重要方法之一。深入分析了机械刻划光栅的等间距刻线弯曲和刻线位置误差对平面光栅分辨本领和杂散光等光谱性能的影响,对改善光栅质量和提高应用水平有重要的意义。根据费马原理,建立了单色平行光入射、含有刻线弯曲和刻线位置误差的平面光栅在焦平面上成像的光线追迹数学模型,研究了上述两种刻线误差对光栅光谱性能的影响。结果表明,刻线弯曲和刻线位置误差分别主要影响光栅弧矢和子午方向光谱性能,刻线弯曲对光栅分辨本领和杂散光影响较小。据此对光栅刻划机刻划系统进行了修正。修正后的刻划系统产生的刻线位置误差的统计平均值降低至原有幅值的一半以下,从而有效抑制了光栅杂散光。 |
关键词 | 光栅 平面光栅 光栅刻线弯曲 光栅刻线位置误差 衍射波前 光栅指标 |
收录类别 | CNKI |
语种 | 中文 |
文献类型 | 期刊论文 |
条目标识符 | http://ir.ciomp.ac.cn/handle/181722/38760 |
专题 | 中科院长春光机所知识产出 |
推荐引用方式 GB/T 7714 | 李晓天,巴音贺希格,齐向东,等. 机械刻划光栅的刻线弯曲与位置误差对平面光栅性能影响及其修正方法[J]. 中国激光,2013(03):232-239. |
APA | 李晓天,巴音贺希格,齐向东,于海利,&唐玉国.(2013).机械刻划光栅的刻线弯曲与位置误差对平面光栅性能影响及其修正方法.中国激光(03),232-239. |
MLA | 李晓天,et al."机械刻划光栅的刻线弯曲与位置误差对平面光栅性能影响及其修正方法".中国激光 .03(2013):232-239. |
条目包含的文件 | 下载所有文件 | |||||
文件名称/大小 | 文献类型 | 版本类型 | 开放类型 | 使用许可 | ||
机械刻划光栅的刻线弯曲与位置误差对平面光(1210KB) | 开放获取 | CC BY-NC-ND | 浏览 下载 |
个性服务 |
推荐该条目 |
保存到收藏夹 |
查看访问统计 |
导出为Endnote文件 |
谷歌学术 |
谷歌学术中相似的文章 |
[李晓天]的文章 |
[巴音贺希格]的文章 |
[齐向东]的文章 |
百度学术 |
百度学术中相似的文章 |
[李晓天]的文章 |
[巴音贺希格]的文章 |
[齐向东]的文章 |
必应学术 |
必应学术中相似的文章 |
[李晓天]的文章 |
[巴音贺希格]的文章 |
[齐向东]的文章 |
相关权益政策 |
暂无数据 |
收藏/分享 |
除非特别说明,本系统中所有内容都受版权保护,并保留所有权利。
修改评论