Changchun Institute of Optics,Fine Mechanics and Physics,CAS
大尺寸氧化铝陶瓷导轨超精研抛工艺研究 | |
刘剑![]() | |
2019 | |
发表期刊 | 中国光学
![]() |
卷号 | 12期号:03页码:663-669 |
摘要 | 为了提高氧化铝陶瓷导轨超精密研抛加工的工作效率,分析了研抛压力、研抛速度以及磨料添加间隔等工艺参数与研磨抛光效率的关系。首先,根据氧化铝陶瓷导轨的特性及物理参数,确定研磨抛光盘以及磨料的选型。然后以高精度平面平晶作为检测工具,平晶与导轨表面形成干涉条纹,利用条纹的数量定量表征研抛效果。最终得到氧化铝陶瓷导轨的最佳工艺参数:每个研抛压力应该控制在40 N;研抛线速度为45 m/min;研磨剂的添加时间为30 min。在同等时间内,应用此套工艺参数可以达到更高的面型精度。 |
关键词 | 高精度 陶瓷导轨 超精研抛 |
文献类型 | 期刊论文 |
条目标识符 | http://ir.ciomp.ac.cn/handle/181722/63648 |
专题 | 中科院长春光机所知识产出 |
推荐引用方式 GB/T 7714 | 刘剑,蔡黎明,成贤锴,等. 大尺寸氧化铝陶瓷导轨超精研抛工艺研究[J]. 中国光学,2019,12(03):663-669. |
APA | 刘剑,蔡黎明,成贤锴,顾国刚,&于涌.(2019).大尺寸氧化铝陶瓷导轨超精研抛工艺研究.中国光学,12(03),663-669. |
MLA | 刘剑,et al."大尺寸氧化铝陶瓷导轨超精研抛工艺研究".中国光学 12.03(2019):663-669. |
条目包含的文件 | ||||||
文件名称/大小 | 文献类型 | 版本类型 | 开放类型 | 使用许可 | ||
大尺寸氧化铝陶瓷导轨超精研抛工艺研究.c(4027KB) | 期刊论文 | 出版稿 | 开放获取 | CC BY-NC-SA | 浏览 请求全文 |
个性服务 |
推荐该条目 |
保存到收藏夹 |
查看访问统计 |
导出为Endnote文件 |
谷歌学术 |
谷歌学术中相似的文章 |
[刘剑]的文章 |
[蔡黎明]的文章 |
[成贤锴]的文章 |
百度学术 |
百度学术中相似的文章 |
[刘剑]的文章 |
[蔡黎明]的文章 |
[成贤锴]的文章 |
必应学术 |
必应学术中相似的文章 |
[刘剑]的文章 |
[蔡黎明]的文章 |
[成贤锴]的文章 |
相关权益政策 |
暂无数据 |
收藏/分享 |
除非特别说明,本系统中所有内容都受版权保护,并保留所有权利。
修改评论