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亚微米尺寸元件的离子束刻蚀制作 期刊论文
光子学报, 2003, 期号: 06, 页码: 653-656
作者:  曹召良;  陆广;  王吉增;  杨柏;  卢振武;  李凤有;  任智斌;  刘玉玲
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离子束刻蚀  亚微米  离子能量  束流密度  刻蚀速率  表面光洁度  
多晶硅薄膜晶体管工艺中的反应性离子刻蚀 期刊论文
液晶与显示, 2002, 期号: 01, 页码: 59-64
作者:  王大海;  李轶华;  孙艳;  吴渊;  陈国军;  付国柱;  荆海;  万春明
caj(42Kb)  |  收藏  |  浏览/下载：953/127  |  提交时间：2013/03/11
多晶硅薄膜晶体管  反应性离子刻蚀  刻蚀速率  选择比