Changchun Institute of Optics,Fine Mechanics and Physics,CAS
| 大功率准分子激光制备类金刚石膜及场发射性能 | |
| 赵立新; 彭鸿雁; 陈玉强; 陈宝玲; 徐闰; 黄健; 王林军; 夏义本; 王惟彪 | |
| 2008-10-15 | |
| 发表期刊 | 液晶与显示
 |
| ISSN | 1007-2780 |
| 期号 | 5 |
| 摘要 | 采用大功率高重复频率准分子激光溅射热解石墨靶制备了类金刚石膜,研究了激光功率密度和重复频率对类金刚石膜的结构及场发射性能的影响。保持重复频率不变,提高激光功率密度可提高膜中sp3键碳的含量和膜的场发射性能;在最佳激光功率密度下,当重复频率由200Hz提高到500Hz,膜中sp3键碳的含量和膜的场发射性能先提高,后降低,在300Hz时达到最佳。在300Hz重复频率、1010W/cm2激光功率密度下,膜的发射阈值电场为26V/μm,在34V/μm的电场下测得电流密度为14μA/cm2。根据类金刚石膜的场发射机理对上述结果进行了分析解释。 |
| 关键词 | 脉冲激光沉积 类金刚石膜 场发射 |
| 文献类型 | 期刊论文 |
| 条目标识符 | http://ir.ciomp.ac.cn/handle/181722/21373 |
| 专题 | 中科院长春光机所知识产出 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 赵立新,彭鸿雁,陈玉强,等. 大功率准分子激光制备类金刚石膜及场发射性能[J]. 液晶与显示,2008(5). |
| APA | 赵立新.,彭鸿雁.,陈玉强.,陈宝玲.,徐闰.,...&王惟彪.(2008).大功率准分子激光制备类金刚石膜及场发射性能.液晶与显示(5). |
| MLA | 赵立新,et al."大功率准分子激光制备类金刚石膜及场发射性能".液晶与显示 .5(2008). |
| 条目包含的文件 | ||||||
| 文件名称/大小 | 文献类型 | 版本类型 | 开放类型 | 使用许可 | ||
| 大功率准分子激光制备类金刚石膜及场发射性（467KB） | 开放获取 | -- | 浏览 请求全文 | |||
| 个性服务 |
| 推荐该条目 |
| 保存到收藏夹 |
| 查看访问统计 |
| 导出为Endnote文件 |
| 谷歌学术 |
| 谷歌学术中相似的文章 |
| [赵立新]的文章 |
| [彭鸿雁]的文章 |
| [陈玉强]的文章 |
| 百度学术 |
| 百度学术中相似的文章 |
| [赵立新]的文章 |
| [彭鸿雁]的文章 |
| [陈玉强]的文章 |
| 必应学术 |
| 必应学术中相似的文章 |
| [赵立新]的文章 |
| [彭鸿雁]的文章 |
| [陈玉强]的文章 |
| 相关权益政策 |
| 暂无数据 |
| 收藏/分享 |
除非特别说明，本系统中所有内容都受版权保护，并保留所有权利。
修改评论